Erweiterung ungesättigter Siliciumcluster mit atomarer Genauigkeit

Kinga I. Leszczyńska; Volker Huch; Carsten Präsang; Jan Schwabedissen; Raphael J. F. Berger; David Scheschkewitz

doi:10.1002/ange.201811331

Erweiterung ungesättigter Siliciumcluster mit atomarer Genauigkeit

Kinga I. Leszczyńska, Volker Huch, Carsten Präsang, Jan Schwabedissen, Raphael J. F. Berger, David Scheschkewitz

Chemistry and Physics of Materials

Research output: Contribution to journal › Article › peer-review

Original language	Undefined/Unknown
Journal	Angewandte Chemie
DOIs	https://doi.org/10.1002/ange.201811331
Publication status	Published - 8 Apr 2019

Fields of Science and Technology Classification 2012

104 Chemistry

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10.1002/ange.201811331

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TY - JOUR

T1 - Erweiterung ungesättigter Siliciumcluster mit atomarer Genauigkeit

AU - Leszczyńska, Kinga I.

AU - Huch, Volker

AU - Präsang, Carsten

AU - Schwabedissen, Jan

AU - Berger, Raphael J. F.

AU - Scheschkewitz, David

PY - 2019/4/8

Y1 - 2019/4/8

UR - https://doi.org/10.1002/ange.201811331

U2 - 10.1002/ange.201811331

DO - 10.1002/ange.201811331

M3 - Article

SN - 0044-8249

JO - Angewandte Chemie

JF - Angewandte Chemie

ER -

Erweiterung ungesättigter Siliciumcluster mit atomarer Genauigkeit

Fields of Science and Technology Classification 2012

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